Plasma PR Stripper | Plasma PR Stripper (플라즈마 감광제 제거기)
| Laboratory/Field | |||
|---|---|---|---|
| Model | PTP300 | ||
| Maker | PINK | ||
| Technician | Hee-Song Hong | ||
| Contact | 052-217-4194 / [email protected] | ||
| Status for Reservation | 가능 | ||
| Reservation Unit | 30min | Maximum Time (per day) | 3H |
| Open(~ago) | 14D | Cancel (~ago) | 0.5H |
| Equipment location | 108동 B101호 | ||
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Description
반도체 포토 공정(photolithography) 및 플라즈마 에칭(etching) 공정 이후 잔여 레지스트(Resist) 막 제거를 위해 사용되는 설비
산소 플라즈마를 주로 사용하여 공정 진행Photo resist and polymer residue stipper after photolihography and plasma etching.
O2 plasma is used for process. -
Specifications
Sample : max 8inch
MW power : Max 500W
Temperature : 300~500 deg
Gas : O2, Ar
Dry pump
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Applications
PR stripper, O2 plasma