Equipment

Multi-Purpose High Power XRD(MPXRD) | 다목적 고출력 X선회절기

보유장비 관련 정보
Laboratory/Field
Model Smart Lab
Maker RIGAKU(Japan)
Technician Gyeong Ae Lee
Contact 052-217-4163 / kalee@unist.ac.kr
Status for Reservation 가능
Reservation Unit 2 Maximum Time (per day) 2
Open(~ago) Cancel (~ago)
Equipment location B101-2, Bldg.102
  • Description

    ○ 자율사용전용 -> XRD 분석 의뢰는 HRPXRD 장비로 요청해 주세요.

    ○ 응용: 분말/박막 결정구조 분석

    ○ 측정범위: 5~120 도

    ○ 샘플량: 분말 0.5 mg 이상, Bulk & 극박막 1um 이하
    ○ 샘플준비
    - 분말: 압분체(5㎛ 또는 325 mesh 이하)로 준비​
    - 판상: 가로세로 1cm ~ 2cm 크기로 준비(윗면과 바닥 모두 이물질 없는 깨끗한 상태로 준비​, 금속시편은 표면 polishing)

    ○ 시료 홀더 주위를 발열체(고온)으로 온도를 제어하면서 원하는 온도 구간별로 X-선 회절 peak를 측정하는 장비
    - 주의점 : 측정온도 구간 내 시료의 물리적 변화(용해, 기화)가 있는 경우 측정 불가함. (측정 구간 내 물질 안정성은 DSC 또는 TGA 분석결과로 혹인 필수)
    - 온도범위: 상온 ~ 약 1300 ℃
    시료 및 측정분위기(vacuum, gas 등)에 따라 승온 가능 범위가 다름으로 담당자와 상의 요망
    (예: Si wafer 사용 시료인 경우 650 ℃까지 승온 가능, 700C 이상에서 Pt 홀더와 반응)
    - 분위기조절 : 진공 상태 / N2, He gas
    - 시료형태: 분말(1g 정도) 및 판상 (10* 10* 0.1 mm)

    ○ For self-use only -> Please request XRD analysis using HRPXRD

    ○ Application: Crystal structure analysis powder or thin film

    ○ Measurement range: 5~120 degrees

    ○ Sample amount: Powder 0.5 mg or more, Bulk & ultra-thin film 1 um or less
    ○ Sample preparation
    - Powder: Prepare as a press(5㎛ or 325 mesh or less)
    - Plate: Prepare in a size of 1cm to 2cm in width and length(Dust free, metal need surface polishing)

  • Specifications

    ○ X-Ray generator : Max. power 9kW

    ○ Incident K-alpha

    - X-ray wavelength : Cu K-alpha

    ○ Detectors : 2D detector (Hypix-3000)

    ○ High precision goniometer

    - Geometry : Vertical θ/θ geometry with horizontal sample mounting

    ○ Variable incident beam

    - Bragg-brentano direct beam

    - Divergent monochromatic beam

    - Parallel beam

    - High resolution parallel beam

    - Micro focusing beam

    ○ Attachment

    - High Temperature attachment

    - Chi-Phi attachment

    - 2D Transmission SAXS/WAXS stage

  • Applications

    ○ PDF Reference match 및 profile refinement를 통한 결정구조 및 크기, 물질/상 분석, 정량분석

    ○ XRD profile 분석을 통해 crystallite size 및 crystallinity 분석

    ○시료 홀더 주위를 발열체(고온)으로 온도를 제어하면서 원하는 온도 구간별로 X-선 회절 peak를 측정하는 장비