보유장비

RF Sputter | 고주파 스퍼터링 시스템

RF Sputter
보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 SRN-120
제조사 SORONA
담당자 김형일
연락처 052-217-4065 / hikim78@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 1hr 1일최대예약시간 2hr
예약Open(~일 전) 2주전 예약취소불가(~일 전) 2hr
장비위치 108동 B101호(Bldg, 108, Room B101)
  • Description

    RF Sputtering system is a multi-purpose tool generating plasma inside chamber supplying 13.56 Mhz RF power to cathode and capable of thin film deposition of insulator on wafer by sputtering an insulator target by self bias voltage.

  • Specifications

    • Substrate size : 4, 6 inch wafer

    • Substrate rotation speed : 0 ~ 60 rpm

    • RF pre-cleaning : 300 W, automatic processing

    • Substrate heating : 400 °C ± 3 % (wafer temp)

    • Target : ITO, ZnO, SiO2, Al2O3, TiO2

    • Power source : 13.56 Mhz RF power

    • Uniformity : less than ± 5 % within wafer

  • Applications

    • Thin film for semiconductor

    • Insulation layer deposition