Self 사용자 : 50 % 대학 : 90 % 타지역 소재 기업 : 120% 적용(단위 : 원)
-
공용장비이용료 구분 장비
(Model)분석 항목 단위 이용료 비고 내부
(70%)외부
(100%)기기
분석실Electron Microscopy Advanced TEM
(Titan G2 Cube 60-300)TEM hr 280,000 400,000 HR-TEM
(JEM-2100F
With Cs Corrector)Imaging, STEM, EDS hr 140,000 200,000 -Grid : 10,000 FE-TEM
(Tecnai G2 F20 X-Twin )Imaging, STEM, EDS hr 70,000 100,000 Normal TEM
(JEM-2100)Imaging, STEM, EDS hr 70,000 100,000 Bio-TEM
(JEM-1400)Imaging hr 56,000 80,000 Quanta 3D FIB
(Quanta 3D FEG)Milling hr 140,000 200,000 TEM 시편제작 hr 140,000 200,000 Imaging, EBSD hr 42,000 60,000 Helios 450HP FIB
(Helios 450 HP)Milling, Image hr 140,000 200,000 TEM 시편제작 시료 280,000 400,000 SU7000 FE-SEM
(SU7000 SEM)Imaging, EDS hr 42,000 60,000 SU8220 Cold FE-SEM
(SU8220 Cold SEM)Imaging, EDS hr 42,000 60,000 Cold FE-SEM
(S4800 Cold SEM)Imaging, EDS hr 42,000 60,000 Nano230 FE-SEM
(Nova Nano230 SEM)Imaging, EDS hr 42,000 60,000 Quanta200 FE-SEM
(Quanta200 SEM)Imaging, EDS hr 42,000 60,000 Electron Microscopy Sample Preparation Advanced Plasma System Cleaning Sample 7,000 10,000 Dimple Grinder Dimplingg hr 3,500 5,000 FEI Sputter Sputtering Sample 7,000 10,000 Hitachi Sputter Sputtering Sample 7,000 10,000 Inverted Metallurgical Microscope Imaging hr 7,000 10,000 Ion Milling System Milling Sample 56,000 80,000 Low Angle Ion Mill Milling hr 14,000 20,000 Low Speed Saw
(Techcut4)Sawing hr 4,900 7,000 Mechanical Polishing System
(Metprep3)Polishing hr 7,000 10,000 -Silicon carbide: 5,000/ea Mechanical Polishing System
(Multiprep)Polishing hr 7,000 10,000 Mounting Press Mounting Sample 14,000 20,000 Nano Mill Milling hr 17,500 25,000 Plunge Freezer TEM용 시편제작 hr 35,000 50,000 PIPS Milling hr 14,000 20,000 Ultramicrotome
(Leica EU7, RMC CR-X)SEM용 시편제작(상온) Sample 42,000 60,000 TEM용 시편제작(상온) Sample 56,000 80,000 TEM용 시편제작(저온) Sample 112,500 150,000 Precision Etching Coating System Coating (C) frequency of use 21,000 30,000 Coating (Ti, Ta, Cr) frequency of use 28,000 40,000 X-ray Analysis High Power XRD
(D/MAX2500V/PC)WAXS hr 35,000 50,000 VT-XRD, In-situ hr 35,000 – High Resolution XRD
(D8 Advance)Phase Analysis hr 35,000 50,000 High Resolution Power XRD Cu Kalpha1
Phase Analysishr 70,000 100,000 Capillary 가격 동일 Cu Kalpha
(Kalpha1+Kalpha2)
Phase Analysishr 35,000 50,000 Multi-purpose High Power XRD
(Smart Lab XE)Phase Analysis hr 35,000 50,000 In-situ hr 35,000 50,000 In-situ
(He gas)hr 5,000 5,000 extra charge XRF
(D8 Tiger)Element Analysis Sample 35,000 50,000 Spectroscopic Analysis 600MHz FT-NMR
(VNMRS 600)1H 시료 14,000 20,000 -용매 : 실비정산-Advanced experiment: Soild-state NMR, Nano-probe, 2D, 고온/저온 실험, 1H, 13C 이외 핵종 13C hr 42,000 60,000 Advanced exp. hr 63,000 90,000 Overnight 12 hr 336,000 480,000 Pre-treatment Sample 28,000 40,000 400MHz FT-NMR 1H hr/Sampler 21,000/hr 10,000/Sample -용매 : 실비정산
-시간 단위 이용수가의
경우, 10분 단위 산정
가능13C 2D/1D Advanced exp. hr 35,000 50,000 Overnight 12 hr 105,000 150,000 FT-IR
(670-IR/620-IR)Main body
(ATR 모드)hr/Sampler 21,000
(hr)10,000
(sample)외부 의뢰 시료 중 이물을 찾는 등 시료당 시간이 많이 걸리는 경우, 초과 시간당, 기본 요금의 0.5배를 추가 청구 Main body
(acc. 모드)hr/Sample 31,500
(hr)15,000
(Sample)Microscope hr/Sample 42,000
(hr)20,000
(Sample)UV-Vis-NIR
(Cary 5000)UV-Vis-NIR hr/Sample 14,000
(1hr)10,000
(Sample)DRA/SRA 기본료 10,000 – hr/Sample 14,000
(1hr)20,000
(Sample)VASRA 기본료 10,000 – hr/Sample 14,000
(1hr)20,000
(Sample)UV-Vis-NIR
Microspectrometer
(20/20 PV)Qualitative
analysis기본료 14,000 20,000 hr/Sample 14,000/hr 20,000/Sample Fluorometer
(Cary Eclipse)형광분석 hr/Sample 7,000 10,000 Spectrofluorometer
(FP-8500ST)Quantum yield Sample 7,000 10,000 Zeta Potential
(Nano ZS)전위 측정 hr/Sample 14,000 20,000 Surface Analysis XPS
(K-alpha)정성 시료 42,000 60,000 Depth 시료 84,000 120,000 UPS
(Escalab230)표면분석 hr/시료 63,000 90,000 Depth profile hr/시료 105,000 150,000 AFM
(MultimodeV)표면분석 및 멀티모드 hr 35,000 50,000 -Probe 실비 AFM
(Dimension, Ikon)표면분석 및 멀티모드 hr 35,000 50,000 -Probe 실비 AFM-Raman
Confocal Raman
(Alpha300S/Alpha300R)Element Analysis hr 17,500 25,000 TOF-SIMS
(TOF SIMS 5)기본료 기본료 70,000 100,000 -1시간 초과시별도
(Depth에 한함)
-data 재처리 추가비용 발생Surface Analysis 시료 49,000 70,000 Depth Profile 시료 49,000 70,000 Imaging 시료 49,000 70,000 Physisorption Analyzer
(ASAP 2420, 2020)surface area 시료 42,000 60,000 surface area 및 그외 (meso pore) 시료 56,000 80,000 surface area 및 그외 (micro pore) 시료 70,000 100,000 Mass Analysis MALDI-TOF/TOF
(Ultraflex III)MS 시료 21,000 30,000 MS/MS 시료 42,000 60,000 GC/MS/MS
(450-GC & 320-MS)DIP MS 시료 21,000 30,000 GC/MS 시료 42,000 60,000 GC/MS/MS 시료 63,000 90,000 HPLC/MS/MS
(HCT Basic System)ESI MS 시료 21,000 30,000 MS/MS 시료 42,000 60,000 LC/MS 시료 49,000 70,000 LC/VWD 시료 49,000 70,000 LC/VWD/MS 시료 59,500 85,000 LC/MS/MS 시료 70,000 100,000 GPC/MALS
(Agilent 1200S
miniDAWN TREOS)GPC 시료 21,000 30,000 MALS 시료 59,500 85,000 DART-HRMS
(AccuTOF 4G+ DART)ESI-MS 21,000 30,000 DART-MS 21,000 30,000 UPLC/Q-TOF-MS
(Xevo G2 Q-TOF)
(2021년 7월 적용 예정)HRMS 시료 21,000 30,000 MS/MS 시료 42,000 60,000 LC/MS 시료 70,000 100,000 LC/MS/MS 시료 84,000 120,000 UPLC 시료 35,000 50,000 Element Analyzer
(Flash 2000)C,H,N,S 시료 24,500 35,000 O 시료 28,000 40,000 Thermal & Physical Analysis Thermal Analysis
(TA Q200, Q600, Q800, Q500)열분석 시료(기본
(2hr))21,000 30,000 hr 3,500 5,000 Diatometry 열분석 시간 35,000 50,000 -기본 3시간 측정
-추가 시간당 10,000원Seebeck Coefficient Analyzer
(SBA458)제백계수, 전기전도도 Sample 14,000 20,000 -기본 3시간 측정
-추가 요금 5,000Rheometer
(Haake Mars 3)물성측정 기본료
(2hr)28,000 40,000 hr hr 3,500 5,000 -
공용장비이용료 구분 장비
(Model)분석 항목 단위 이용료 비고 내부
(70%)외부
(100%)나노소자
공정실E-beam lithography
(NB3)공정 2 hr 210,000 300,000 – Pattern 의뢰자 제공 추가요금 0.5 hr 56,000 80,000 ․ 기본 ER/PR 및 Chemical 제공
(AR-P 6200.09, AR-P 671.04, AR-N 7520.18, AR 600-546,
AR 300-71, AR 300-46)
․ Data consulting, Job file making, e-beam resist coating, baking 및 develop 무료Photo lithography
(MA6#1,#2)공정 0.5 hr 21,000 30,000 개인재료(PR)
사용시:
-1,800(원/30min)할인적용-기본 PR 및 Chemical 제공 (GXR601, AZ5214, AZ4330, nLOF2035, MIF300)
-Spin coater, Wet Station, Oven, Hot plate 무료Photo lithography
(MDA400S)공정 0.5hr 17,500 25,000 개인재료(PR)
사용시:
-1,800(원/30min)할인적용-기본 PR 및 Chemical 제공 (AZ5214, AZ4330, AZ9260, nLOF2035, MIF300)
-Spin coater, Wet Station, Oven, Hot plate 무료Nano Imprinter
(ANT-6H)공정 1회 기준
≤ 3 hr42,000 60,000 – Nano Imprinter
(ANT-6H)공정 1회 기준
≤ 3 hr42,000 60,000 – Wet Station
(Wet Station)Solvent 1회 (1 hr) 21,000 30,000 -장기 입실자 무료 Deep Si Etcher
(Tegal 200)공정 1회
≤ 100 um105,000 150,000 -100μm 이상 진행시
별도 협의추가요금 100 um 35,000 50,000 Dielectric RIE
(Labstar)공정 1회 기준 42,000 60,000 30분 이상 진행시
별도 협의Metal RIE
(Labstar)공정 1회 기준 42,000 60,000 30분 이상 진행시
별도 협의Dielectric ICP-RIE
(FABstar)공정 1회 기준 63,000 90,000 30분 이상 진행시
별도 협의Metal ICP-RIE
(FABstar)공정 1회 기준 63,000 90,000 30분 이상 진행시
별도 협의PR Asher
(V15-G)공정 1회 기준
≤ 30 min14,000 20,000 30분 이상 진행시
별도 협의SAM coater
(AVC-150M)공정 1회 42,000 60,000 -Contact angle
측정 무료PR Asher
(V15-G)공정 1회 기준
≤ 30 min14,000 20,000 30분 이상 진행시
별도 협의Furnace
(KHD-306)공정 1회 기준
Batch(25장)210,000 300,000 -습식 산화막 :1㎛ 기준
-건식 산화막 :0.3㎛ 기준DC Sputter
(SRN-120)공정 1회 기준
≤ 500 nm42,000 60,000 -특수 타겟 협의 (사용자 준비)
-추가요금 기준
— 온도: 100℃/30,000원
— layer추가 30,000원추가요금 ≤ 100 nm 7,000 10,000 RF Sputter
(SRN-120)공정 1회 기준
≤ 30 min63,000 90,000 추가요금 ≤ 30 min 63,000 90,000 DC HSC Sputter
(SRN130)공정 1회 기준
≤ 500 nm42,000 60,000 추가요금 ≤ 100 nm 7,000 10,000 RF HSC Sputter
(SRN130)공정 1회 기준
≤ 30 min63,000 90,000 추가요금 ≤ 30 min 63,000 90,000 PE CVD #1, #2
(PEH-600)공정 1회 63,000 90,000 추가요금
≤ SiO2 1um
≤ Si3N4 0.5 umPE CVD#3
(FABStar-PECVD)공정 1회 63,000 90,000 추가요금
≤ SiC 1um
≤ Si3N4 0.5 umLP CVD
(KVL206)공정 1회 기준
Batch(25)210,000 300,000 추가요금
≤ D-Ploy 0.2 um
≤ Si3N4 0.5 umE-beam Evaporator
(WC-4000)공정 1회 기준
≤ 500nm63,000 90,000 -6인치 1장 기준
-재료비 실비 정산(Au, Ag, Pd, Pt 등)
-특수 metal 및 crucible 사용자 준비추가요금 layer 추가 31.500 45,000 100 C 21,000 30,000 Auto Parylene Coating system
(NRPC-500)공정 1회 기준 70,000 100,000 Atomic layer deposition
(Lucida D100)공정 1회 75,000 150,000 -추가요금
–100Å 이상 추가 증착시
–50Å당 40,000원• 100Å 이상 시 별도 협의 Atomic layer deposition
(Atomic premium CN1)공정 1회 75,000 150,000 -추가요금
–100Å 이상 추가 증착시
–50Å당 40,000원• 100Å 이상 시 별도 협의 UHV-CVD
(UC-1)공정 1회 105,000 150,00 E-beam Evaporator
(Temescal-FC-2000)공정 1회 기준
≤ 500 nm63,000
(Single layer)90,000
(Single layer)-6인치(5장), 4인치(13)
-재료비 실비 정산(Au, Ag, Pd, Pt 등)
-특수 metal 및 crucible 사용자 준비추가요금 layer 추가 31.500 45,000 100 C 21,000 30,000 Measurement Microscope
(Axio Scope A1)측정 1회 기준
≤ 30min7,000 10,000 장기 입실자 무료 Surface Profiler
(P-6)측정 1회 기준
10min4,200 6,000 장기 입실자 무료 Thickness Measurement
(ST4000-DLX)측정 1회 기준
10min4,200 6,000 장기 입실자 무료 Surface & Height 3D profiler 측정 1회 기준
10min4,200 6,000 장기 입실자 무료 4-Point Probe System
(CMT-SR2000N)측정 1회 기준
10min4,200 6,000 장기 입실자 무료 Contact angle measurement
(CAM-100)측정 1회 기준
10min4,200 6,000 장기 입실자 무료 Ellipsometer
(AR06DM)측정 1회 기준
10min4,200 6,000 추가 요금 – 10,000 Substrate Bonder
(SB-6L)후공정 1회 56,000 80,000 Dicing Saw#1
(AR06DM)후공정 장
(A공정)21,000 30,000 ․A공정: Non-pattern
․B공정: Pattern
․추가요금: Dicing line 30개 초과
․Glass, Quartz, Si 외
기판 협의장
(B공정)28,000 40,000 추가요금 7,000 10,000 Dicing Saw#2
(NDS-1012)후공정 장
(A공정)21,000 30,000 ․A공정: Non-pattern
․B공정: Pattern
․추가요금: Dicing line 30개 초과
․Glass, Quartz, Si 외
기판 협의장
(B공정)28,000 40,000 추가요금 7,000 10,000 Normal SEM 미세구조물
프로필 분석시간 28,000 40,000 추가 요금: Sputter 사용 Rapid Thermal Processing RTP, RTO 30 min 35,000 50,000 CMP&Lapping system CMP 기본료(Wf) 70,000 100,000 ․8’‘ wafer > 1 um 70,000 100,000 Lapping & polishing 기본료(Wf) 42,000 60,000 ․6’‘ wafer > 200 um 14,000 20,000 입실료 기간별
입실료7,000/day
108,000/1M
215,000/3M
380,000/6M -
공용장비이용료 구분 장비
(Model)분석 항목 단위 이용료 비고 내부
(70%)외부
(100%)환경분석
센터HRMS
(Autospec premier)HRMS 시료 210,000 300,000 정량분석 시 std는 시료수에 포함 POPs 분석 배출가스 – 4,000,000 -울산지역 20% 할인
-추가시료 30% 할인
-작업환경 및 난이도에 따라 추가 비용 발생
-용역 입찰, 계약에 관한 사항은 계약 내용에 따름일반대기 – 2,200,000 -출장비 포함 수질 – 2,000,000 토양 – 2,000,000 GC/MS
(Agilent 7890A/5975C)GC/MS 시료 42,000 60,000 ICP/MS
(ELAN DRC-II)Element Analysis 시료
(1원소)35,000 50,000 기본 1개 원소
추가원소 분석 시 5,000/원소전처리 시료 21,000 30,000 GC/ECD
(7890A/u-ECD)GC 시료 35,000 50,000 PCB 분석 시료 – 100,000 -기술료 10만원/4시간
-추가시료는 별도협의
-출장비는 실비청구LC/MS/MS
(Xevo TQ-S)정량분석 시료 70,000 100,000 정량분석 시 std는 시료수에 포함 ICP-OES
(720-ES)Element Analysis 시료 17,500 25,000 기본 3개 원소
추가원소 분석 시 3,000원/원소전처리 시료 21,000 30,000 -
공용장비이용료 구분 장비
(Model)분석 항목 단위 이용료 비고 내부
(70%)외부
(100%)기기
가공실CNC 5-Axis Machining
(C40U)정밀 가공 hr 49,000 70,000 -재료비 별도
-Design 별도CNC 3-Axis Machining
(B300V)정밀 가공 hr 35,000 50,000 CNC late
(TPL-6)정밀 원통가공 hr 21,000 30,000 Lathe
(TIPL-410)원통가공 hr 10,500 15,000 Vertical Milling Machine
(STM-2VM)평면가공 hr 10,500 15,000 CNC Surface Grinding
(DSG-630)정밀 평면가공 hr 21,000 30,000 -재료비 별도
-Design 별도Metal Cutting
Band Saw
(KDBS-200)소재절단 건 3,500 5,000 -재료비 별도
-Design 별도Electro Discharge
Machine
(znc200m)형상방전가공 hr 21,000 30,000 -재료비 별도
-Design 별도Coordinate Measuring Machine
(pgs)정밀 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Three-Dimensional Measurement
(NV-3000)3차원 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Semi Auto Formtracer
System
(SC-V3100)정밀 측정 0.5 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Mult-Component
Dynamometer
(2825A)정밀 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Laser Interferometer
(XL-80)정밀 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Powerful Microscope
(MF-1010B)정밀 측정 0.5 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Mini lathe & Milling
(ML-360)소형
공작물가공건 3,500 5,000 -재료비 별도
-Design 별도Bench Drilling Machine
(MD-360)구멍가공 건 3,500 5,000 -재료비 별도
-Design 별도Plotter
(HP Z6200)종이(paper) 건 30,000 – 천(Fabric) 건 35,000 – Universal Testing Machine
(AGS-100NX)정밀 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Electron-Beam PIKA Machine(PF32B) 정밀가공 hr 28,000 40,000 -재료비 별도
-Design 별도Ultra- Precision Nano Machine
(FANUC ROBONANO α – 0iB)정밀 가공 2hr 70,000 100,000 -재료비 별도
-Design 별도3D Print
(sPro TM 60SD SLS Center)시제품 제작 건 28,000 40,000 -재료비 별도 Laser Cutting Machine
(K2CMS1)정밀 커팅 0.5 hr 21,000 30,000 -재료비 별도
-Design 별도3D Scanner
(REXCAN DS2)정밀 측정 0.5 hr 14,000 20,000 -설계비 별도 Wire-Cut EDM
(SL400G)정밀 커팅 hr 28,000 40,000 -재료비 별도
-Design 별도Welding
(350A)제품 접합 0.5 hr 10,500 15,000 -재료비 별도
-Design 별도CNC Multi Tasking Machine
(NTX 1000)선반 가공 hr 36,000 52,000 -재료비 별도
-Design 별도복합 가공 hr 37,000 53,500 초음파 가공기
(20 Liner)특수가공 hr 56,000 80,000 -재료비 별도
-Design 별도일반가공 hr 35,000 50,000 설계비
(모델링 작업)CAM 0.5 hr 10,500 15,000 Modeling (Design) 0.5 hr 10,500 15,000 -
공용장비이용료 구분 장비
(Model)분석 항목 단위 이용료 비고 내부
(70%)외부
(100%)생체효능검증센터 LC/MS/MS
(Orbitrap Elite,
Q Exactive plus)Protein Identify Sample 210,000 300,000 Protein Identify
(Shot-gun)Sample 630,000 900,000 Phophopeptide Site Determination Sample 330,000 480,000 In-Gel Digestion Sample 35,000 50,000 1D SDS-PAGE
Mini Gel / Silver StainingGel 70,000 100,000 1D SDS-PAGE
Mini Gel / Colloidal StainingGel 56,000 80,000 1D SDS-PAGE
Gradient Gel / Silver StainingGel 140,000 200,000 1D SDS-PAGE
Gradient Gel / Colloidal StainingGel 120,000 180,000 ESI MS Sample 21,000 30,000 IVC Rack cage 마우스 사육 케이지․일 560 – 랫 사육 케이지․일 850 – 격리 마우스 사육 케이지․일 1,120 – 격리 랫 사육 케이지․일 1,700 – 마취 처방전 건 5,000 – 수의사 처방전발행 기본실험
기타질환모델 제작 hr 30,000 – 항목명 변경
종양모델 제작에서 질환모델 제작으로 변경기타수술 및 실험지원 hr 30,000 – 해부 실습 회 50,000 – 동물 포함 배아 동결 및 이식 실험 배아 동결 보존 품종/개월 10,000 14,000 수정란 200개 배아 동결 분양 마리 50,000 70,000 기본 2pairs 배아 이식 품종 350,000 500,000 미생물모니터링 포함, 관련운송비 불포함 동물 청정화 품종 800,000 1,100,000 대리모 이식 후 4주령 산자 제공
(미생물모니터링 포함, 관련운송비 불포함)행동분석 장비 비디오분석 시간 8,900 12,800 운동감각기능평가 시간 8,900 12,800 행동분석실
공간사용료시간 6,580 9,400 조직병리장비 Tissue-processor 건 42,000 60,000 Paraffin embedding center 시간 4,900 7,000 Microtome 시간 6,300 9,000 Cryostat 시간 6,300 9,000 H&E 염색 건 32,200 46,000 영상분석장비 MRI 시간 73,000 104,000 micro CT 시간 42,000 60,000 In Vivo optical Imaging system 시간 49,000 70,000 데이터 분석료
(Optical Imaging System)시간 7,000 10,000 -
공용장비이용료 구분 장비
(Model)분석 항목 단위 이용료 비고 내부
(70%)외부
(100%)바이오메드
이미징실Confocal SIM Scan (FV1000) 이미지촬영 hr 35,000 50,000 ZDC Mircoscope
(Cell R)이미지촬영 hr 21,000 30,000 TIFRM System
(Cell TIRFM)이미지촬영 hr 49,000 70,000 Virtual Microscopy
(DOT/SLID)이미지촬영 hr 14,000 20,000 Confocal Microscopy
(FV10i)이미지촬영 hr 21,000 30,000 Inverted Microscopy
(IX-71)이미지촬영 hr 14,000 20,000 Bio Imaging Navigator
(FSX-100)위상차, 형광이미지 촬영 hr 14,000 20,000 Macroview
(MVX10)형광이미지 촬영 hr 14,000 20,000 MetaMorph
/AutoQuantX이미지분석 소프트웨어 – 3,500 3,500 Imaging Analysis 1
(ZEN, Imaris 8.0, MM, AQ)이미지분석 소프트웨어 – 3,500 3,500 Imaging Analysis 2
(ZEN, Imaris 9.6)이미지분석 소프트웨어 – 3,500 3,500 Lightsheet Analysis
(Arivis, Imaris 9.6)이미지분석 소프트웨어 – 3,500 3,500 Super Resolution Microscope
(SIM)Imaging Analysis hr 70,000 100,000 Super Resolution Microscope
(PLAM)Imaging Analysis hr 70,000 100,000 Calcium Imaging Microscope System Imaging Analysis hr 21,000 30,000 Multi-Photon Microscopy Imaging Analysis hr 70,000 100,000 Laser Capture Microdissection Imaging Analysis hr 21,000 30,000 Multi-Photon Confocal
(LSM780NLO)Imaging Analysis hr 56,000 80,000 Super Resolution (SIM & PALM) Imaging Analysis hr 70,000 100,000 Light Sheet Microscope Imaging Analysis hr 70,000 100,000 High Sensitive and Multiplex 980 Imaging Analysis hr 70,000 100,000 Spectral and Live Cell Confocal
(LSM780)Imaging Analysis hr 56,000 80,000 -
공용장비이용료 구분 장비
(Model)분석 항목 단위 이용료 비고 내부
(70%)외부
(100%)방사광활용
연구실UNIST-PAL Beamline XRD Day 자율사용(Day:24hr) 693,000
분석의뢰(Day:8hr) 1,260,000자율사용(Day:24hr) 990,000
분석의뢰(Day:8hr) 1,800,000– Power user(빔라인
3년이상 계속 사용자)
30% 청구
– UNIST 신임교원(임용
후 3년 이내)은 무상
지원SAXS Day XAFS Day X-ray Crystallography Day Control/Measurement Programing 건 1,260,000 1,800,000 40 hours a week warking days Data process/analysis Programing 건 1,260,000 1,800,000 40 hours a week warking days