공용장비이용료

Self 사용자 : 50 % 대학 : 90 % 타지역 소재 기업 : 120% 적용(단위 : 원)
  • 공용장비이용료
    구분 장비
    (Model)
    분석 항목 단위 이용료 비고
    내부
    (70%)
    외부
    (100%)
    기기
    분석실
    Electron Microscopy
    Advanced TEM
    (Titan G2 Cube 60-300)
    TEM hr 280,000 400,000
    HR-TEM
    (JEM-2100F
    With Cs Corrector)
    Imaging, STEM, EDS hr 140,000 200,000 -Grid : 10,000
    FE-TEM
    (Tecnai G2 F20 X-Twin )
    Imaging, STEM, EDS hr 70,000 100,000
    Normal TEM
    (JEM-2100)
    Imaging, STEM, EDS hr 70,000 100,000
    Bio-TEM
    (JEM-1400)
    Imaging hr 56,000 80,000
    Quanta 3D FIB
    (Quanta 3D FEG)
    Milling hr 140,000 200,000
    TEM 시편제작 hr 140,000 200,000
    Imaging, EBSD hr 42,000 60,000
    Helios 450HP FIB
    (Helios 450 HP)
    Milling, Image hr 140,000 200,000
    TEM 시편제작 sample 280,000 400,000
    SU7000 FE-SEM
    (SU7000 SEM)
    Imaging, EDS hr 54,000 78,000
    SU8220 Cold FE-SEM
    (SU8220 Cold SEM)
    Imaging, EDS hr 54,000 78,000
    Cold FE-SEM
    (S4800 Cold SEM)
    Imaging, EDS hr 42,000 60,000
    Nano230 FE-SEM
    (Nova Nano230 SEM)
    Imaging, EDS hr 35,000 50,000
    Quanta200 FE-SEM
    (Quanta200 SEM)
    Imaging, EDS hr 35,000 50,000
    Electron Microscopy Sample Preparation
    Advanced Plasma System Cleaning sample 7,000 10,000
    Dimple Grinder Dimplingg hr 3,500 5,000
    FEI Sputter Sputtering sample 7,000 10,000
    Hitachi Sputter Sputtering sample 7,000 10,000
    Inverted Metallurgical Microscope Imaging hr 7,000 10,000
    Ion Milling System Milling hr 17,500 25,000
    Low Angle Ion Mill Milling hr 14,000 20,000
    Low Speed Saw
    (Techcut4)
    Sawing hr 4,900 7,000
    Mechanical Polishing System
    (Metprep3)
    Polishing hr 7,000 10,000 -Silicon carbide: 5,000/ea
    Mechanical Polishing System
    (Multiprep)
    Polishing hr 7,000 10,000
    Mounting Press Mounting sample 14,000 20,000
    Nano Mill Milling hr 17,500 25,000
    Plunge Freezer TEM용 시편제작 hr 35,000 50,000
    PIPS Milling hr 14,000 20,000
    Ultramicrotome
    (Leica EU7, RMC CR-X)
    SEM용 시편제작(상온) sample 49,000 70,000
    TEM용 시편제작(상온) sample 70,000 100,000
    SEM용 시편제작(저온) sample 91,000 130,000
    TEM용 시편제작(저온) sample 140,000 200,000
    Precision Etching Coating System Coating (C) frequency of use 21,000 30,000
    Coating (Ti, Ta, Cr) frequency of use 28,000 40,000
    X-ray Analysis
    High Power XRD
    (D/MAX2500V/PC)
    WAXS hr 35,000 50,000
    VT-XRD, In-situ hr 35,000
    High Resolution XRD
    (D8 Advance)
    Phase Analysis hr 35,000 50,000
    High Resolution Power XRD Cu Kalpha1
    Phase Analysis
    hr 70,000 100,000 Capillary 가격 동일
    Cu Kalpha
    (Kalpha1+Kalpha2)
    Phase Analysis
    hr 35,000 50,000
    Multi-purpose High Power XRD
    (Smart Lab XE)
    Phase Analysis hr 35,000 50,000
    In-situ hr 35,000 50,000
    In-situ
    (He gas)
    hr 5,000 5,000 extra charge
    XRF
    (D8 Tiger)
    Element Analysis sample 35,000 50,000
    Spectroscopic Analysis
    600MHz FT-NMR
    (VNMRS 600)
    1H sample (20min) 15,400 22,000 -Solution NMR

    (Sample tube)
    WG-1000-7(Cheap) : 5,000원 (기본)
    WG-1228-7(400MHz rate) : 10,000원 (요청시)
    527-PP-7(400MHz rate, Thin wall): 30,000 (요청시, 온도실험, Coaxial 실험)

    (Solvent)
    CDCl3, D20 : 5,000원
    DMSO-D6, Benzene-D6 : 10,000원
    DMF-D7, THF-D8 : 40,000원
    D2SO4, TFA-D : 20,000원

    (Overnight)
    4hr(기본료)+이후 50% 할인

    13C hr 46,200 66,000
    Solid hr 69,300 99,000
    전처리(Solution) 비고 참고
    전처리(Solid) sample 40,000 40,000
    Bruker 400 NMR (AVANCE III HD) 1H sample (20min) 8,400 12,000
    13C hr 25,200 36,000
    Sampling Solution 비고 참고
    FT-IR
    (670-IR/620-IR)
    Main body
    (ATR 모드)
    hr/sample 21,000
    (hr)
    10,000
    (sample)
    외부 의뢰 시료 중 이물을 찾는 등 시료당 시간이 많이 걸리는 경우, 초과 시간당, 기본 요금의 0.5배를 추가 청구
    Main body
    (acc. 모드)
    hr/sample 31,500
    (hr)
    15,000
    (sample)
    Microscope hr/sample 42,000
    (hr)
    20,000
    (sample)
    UV-Vis-NIR
    (Cary 5000)
    기본(%T, Abs) hr 17,500 25,000
    (시료당 30분 기준)
    반사도측정
    Acc사용(%R)
    hr/sample 21,000 25,000
    (sample)
    UV-Vis-NIR
    Microspectrometer
    (20/20 PV)
    Qualitative
    analysis
    hr 18,200 26,000
    Fluorometer
    (Cary Eclipse)
    형광분석 hr/sample 7,000 10,000
    Spectrofluorometer
    (FP-8500ST)
    Quantum yield hr 17,500 25,000

    (시료당 30분)

    Zeta Potential
    (Nano ZS)
    전위 측정 hr/sample 18,200 26,000 -전처리: 실비청구
    Surface Analysis
    XPS
    (K-alpha)
    정성 sample 42,000 60,000
    Depth sample 84,000 120,000
    UPS
    (Escalab230)
    표면분석 hr/sample 63,000 90,000
    Depth profile hr/sample 105,000 150,000
    AFM
    (MultimodeV)
    표면분석 및 멀티모드 hr 35,000 50,000 -Probe 실비
    AFM
    (Dimension, Ikon)
    표면분석 및 멀티모드 hr 35,000 50,000 -Probe 실비
    AFM-Raman
    Confocal Raman
    (Alpha300S/Alpha300R)
    Element Analysis hr 17,500 25,000
    TOF-SIMS
    (TOF SIMS 5)
    기본료 기본료 70,000 100,000 -1시간 초과시별도
    (Depth에 한함)
    -data 재처리 추가비용 발생
    Surface Analysis sample 49,000 70,000
    Depth Profile sample 49,000 70,000
    Imaging sample 49,000 70,000
    Physisorption Analyzer
    (ASAP 2420, 2020)
    surface area sample 42,000 60,000
    surface area 및 그외 (meso pore) sample 56,000 80,000
    surface area 및 그외 (micro pore) sample 70,000 100,000
    Mass Analysis
    MALDI-TOF/TOF
    (Ultraflex III)
    MS sample 21,000 30,000
    MS/MS sample 42,000 60,000
    GC/MS/MS
    (450-GC & 320-MS)
    DIP MS sample 21,000 30,000
    GC/MS sample 42,000 60,000
    GC/MS/MS sample 63,000 90,000
    HPLC/MS/MS
    (HCT Basic System)
    ESI MS sample 21,000 30,000
    MS/MS sample 42,000 60,000
    LC/MS sample 49,000 70,000
    LC/VWD sample 49,000 70,000
    LC/VWD/MS sample 59,500 85,000
    LC/MS/MS sample 70,000 100,000
    GPC/MALS
    (Agilent 1200S
    miniDAWN TREOS)
    GPC sample 21,000 30,000
    MALS sample 59,500 85,000
    DART-HRMS
    (AccuTOF 4G+ DART)
    ESI, DART sample 21,000 30,000
    HR모드사용 sample 7,000 10,000
    UPLC/Q-TOF-MS
    (Xevo G2 Q-TOF)
    (2021년 7월 적용 예정)
    HRMS sample 21,000 30,000
    MS/MS sample 42,000 60,000
    LC/MS sample 70,000 100,000
    LC/MS/MS sample 84,000 120,000
    UPLC sample 35,000 50,000
    Element Analyzer
    (Flash 2000)
    C,H,N,S 분석

    (3회 기본)

    sample 28,000 40,000
    O 분석

    (3회 기본)

    sample 28,000 40,000
    Thermal & Physical Analysis
    Thermal Analysis
    (TA Q200, Q600, Q800, Q500)
    열분석
    (기본 2시간)
    sample 21,000 30,000
    추가시간 hr 3,500 5,000
    저온사용
    (Q800)
    sample 7,000 10,000
    Diatometry 열분석 hr 35,000 50,000 -기본 3시간 측정
    -추가 시간당 10,000원
    Seebeck Coefficient Analyzer
    (SBA458)
    제백계수, 전기전도도 ㄴample 14,000 20,000 -기본 3시간 측정
    -추가 요금 5,000
    Rheometer
    (Haake Mars 3)
    물성측정 기본료
    (2hr)
    28,000 40,000 hr
    hr 3,500 5,000
  • 공용장비이용료
    구분 장비
    (Model)
    분석 항목 단위 이용료 비고
    내부
    (70%)
    외부
    (100%)
    나노소자
    공정실
    E-beam lithography
    (NB3)
    공정 2 hr 210,000 300,000 – Pattern 의뢰자 제공
    추가요금 0.5 hr 56,000 80,000
    ․ 기본 ER/PR 및 Chemical 제공
    (AR-P 6200.09, AR-P 671.04, AR-N 7520.18, AR 600-546,
    AR 300-71, AR 300-46)
    ․ Data consulting, Job file making, e-beam resist coating, baking 및 develop 무료
    Photo lithography
    (MA6#1,#2)
    공정 0.5 hr 21,000 30,000 개인재료(PR)
    사용시:
    -1,800(원/30min)할인적용
    -기본 PR 및 Chemical 제공 (GXR601, AZ5214, AZ4330, nLOF2035, MIF300)
    -Spin coater, Wet Station, Oven, Hot plate 무료
    Photo lithography
    (MDA400S)
    공정 0.5hr 17,500 25,000 개인재료(PR)
    사용시:
    -1,800(원/30min)할인적용
    -기본 PR 및 Chemical 제공 (AZ5214, AZ4330, AZ9260, nLOF2035, MIF300)
    -Spin coater, Wet Station, Oven, Hot plate 무료
    Nano Imprinter
    (ANT-6H)
    공정 1회 기준
    ≤ 3 hr
    42,000 60,000
    Nano Imprinter
    (ANT-6H)
    공정 1회 기준
    ≤ 3 hr
    42,000 60,000
    Wet Station
    (Wet Station)
    Solvent 1회 (1 hr) 21,000 30,000
    -장기 입실자 무료
    Deep Si Etcher
    (Tegal 200)
    공정 1회
    ≤ 100 um
    105,000 150,000 -100μm 이상 진행시
    별도 협의
    추가요금 100 um 35,000 50,000
    Dielectric RIE
    (Labstar)
    공정 1회 기준 42,000 60,000 30분 이상 진행시
    별도 협의
    Metal RIE
    (Labstar)
    공정 1회 기준 42,000 60,000 30분 이상 진행시
    별도 협의
    Dielectric ICP-RIE
    (FABstar)
    공정 1회 기준 63,000 90,000 30분 이상 진행시
    별도 협의
    Metal ICP-RIE
    (FABstar)
    공정 1회 기준 63,000 90,000 30분 이상 진행시
    별도 협의
    PR Asher
    (V15-G)
    공정 1회 기준
    ≤ 30 min
    14,000 20,000 30분 이상 진행시
    별도 협의
    SAM coater
    (AVC-150M)
    공정 1회 42,000 60,000 -Contact angle
    측정 무료
    PR Asher
    (V15-G)
    공정 1회 기준
    ≤ 30 min
    14,000 20,000 30분 이상 진행시
    별도 협의
    Furnace
    (KHD-306)
    공정 1회 기준
    Batch(25장)
    210,000 300,000 -습식 산화막 :1㎛ 기준
    -건식 산화막 :0.3㎛ 기준
    DC Sputter
    (SRN-120)
    공정 1회 기준
    ≤ 500 nm
    42,000 60,000 -특수 타겟 협의 (사용자 준비)
    -추가요금 기준
    — 온도: 100℃/30,000원
    — layer추가 30,000원
    추가요금 ≤ 100 nm 7,000 10,000
    RF Sputter
    (SRN-120)
    공정 1회 기준
    ≤ 30 min
    63,000 90,000
    추가요금 ≤ 30 min 63,000 90,000
    DC HSC Sputter
    (SRN130)
    공정 1회 기준
    ≤ 500 nm
    42,000 60,000
    추가요금 ≤ 100 nm 7,000 10,000
    RF HSC Sputter
    (SRN130)
    공정 1회 기준
    ≤ 30 min
    63,000 90,000
    추가요금 ≤ 30 min 63,000 90,000
    PE CVD #1, #2
    (PEH-600)
    공정 1회 63,000 90,000 추가요금
    ≤ SiO2 1um
    ≤ Si3N4 0.5 um
    PE CVD#3
    (FABStar-PECVD)
    공정 1회 63,000 90,000 추가요금
    ≤ SiC 1um
    ≤ Si3N4 0.5 um
    LP CVD
    (KVL206)
    공정 1회 기준
    Batch(25)
    210,000 300,000 추가요금
    ≤ D-Ploy 0.2 um
    ≤ Si3N4 0.5 um
    E-beam Evaporator
    (WC-4000)
    공정 1회 기준
    ≤ 300nm
    63,000 90,000 -6인치 1장 기준
    -재료비 실비 정산(Au, Ag, Pd, Pt 등)
    -특수 metal 및 crucible 사용자 준비
    추가요금 layer 추가 31.500 45,000
    100 C 21,000 30,000
    Auto Parylene Coating system
    (NRPC-500)
    공정 1회 기준 70,000 100,000
    Atomic layer deposition
    (Lucida D100)
    공정 1회 75,000 150,000 -추가요금
    –100Å 이상 추가 증착시
    –50Å당 40,000원
    • 100Å 이상 시 별도 협의
    Atomic layer deposition
    (Atomic premium CN1)
    공정 1회 75,000 150,000 -추가요금
    –100Å 이상 추가 증착시
    –50Å당 40,000원
    • 100Å 이상 시 별도 협의
    UHV-CVD
    (UC-1)
    공정 1회 105,000 150,00
    E-beam Evaporator
    (Temescal-FC-2000)
    공정 1회 기준
    ≤ 300 nm
    63,000
    (Single layer)
    90,000
    (Single layer)
    -6인치(5장), 4인치(13)
    -재료비 실비 정산(Au, Ag, Pd, Pt 등)
    -특수 metal 및 crucible 사용자 준비
    추가요금 layer 추가 31.500 45,000
    100 C 21,000 30,000
    Measurement Microscope
    (Axio Scope A1)
    측정 1회 기준
    ≤ 30min
    7,000 10,000 장기 입실자 무료
    Surface Profiler
    (P-6)
    측정 1회 기준
    10min
    4,200 6,000 장기 입실자 무료
    Thickness Measurement
    (ST4000-DLX)
    측정 1회 기준
    10min
    4,200 6,000 장기 입실자 무료
    Surface & Height 3D profiler 측정 1회 기준
    10min
    4,200 6,000 장기 입실자 무료
    4-Point Probe System
    (CMT-SR2000N)
    측정 1회 기준
    10min
    4,200 6,000 장기 입실자 무료
    Contact angle measurement
    (CAM-100)
    측정 1회 기준
    10min
    4,200 6,000 장기 입실자 무료
    Ellipsometer
    (AR06DM)
    측정 1회 기준
    10min
    4,200 6,000
    추가 요금 10,000
    Substrate Bonder
    (SB-6L)
    후공정 1회 56,000 80,000
    Dicing Saw#1
    (AR06DM)
    후공정
    (A공정)
    21,000 30,000 ․A공정: Non-pattern
    ․B공정: Pattern
    ․추가요금: Dicing line 30개 초과
    ․Glass, Quartz, Si 외
    기판 협의

    (B공정)
    28,000 40,000
    추가요금 7,000 10,000
    Dicing Saw#2
    (NDS-1012)
    후공정
    (A공정)
    21,000 30,000 ․A공정: Non-pattern
    ․B공정: Pattern
    ․추가요금: Dicing line 30개 초과
    ․Glass, Quartz, Si 외
    기판 협의

    (B공정)
    28,000 40,000
    추가요금 7,000 10,000
    Normal SEM 미세구조물
    프로필 분석
    시간 28,000 40,000 추가 요금: Sputter 사용
    Rapid Thermal Processing RTP, RTO 30 min 35,000 50,000
    CMP&Lapping system CMP 기본료(Wf) 70,000 100,000 ․8’‘ wafer
    > 1 um 70,000 100,000
    Lapping & polishing 기본료(Wf) 42,000 60,000 ․6’‘ wafer
    > 200 um 14,000 20,000
    입실료 기간별
    입실료
    7,000/day
    108,000/1M
    215,000/3M
    380,000/6M
  • 공용장비이용료
    구분 장비
    (Model)
    분석 항목 단위 이용료 비고
    내부
    (70%)
    외부
    (100%)
    환경분석
    센터
    HRMS
    (Autospec premier)
    HRMS 시료 210,000 300,000 정량분석 시 std는 시료수에 포함
    POPs 분석 배출가스 4,000,000 -울산지역 20% 할인
    -추가시료  30% 할인
    -작업환경 및 난이도에 따라 추가 비용 발생
    -용역 입찰, 계약에 관한 사항은 계약 내용에 따름
    일반대기 2,200,000 -출장비 포함
    수질 2,000,000
    토양 2,000,000
    GC/MS
    (Agilent 7890A/5975C)
    GC/MS 시료 42,000 60,000
    ICP/MS
    (ELAN DRC-II)
    Element Analysis 시료
    (1원소)
    35,000 50,000 기본 1개 원소
    추가원소 분석 시 5,000/원소
    전처리 시료 21,000 30,000
    GC/ECD
    (7890A/u-ECD)
    GC 시료 35,000 50,000
    PCB 분석 시료 100,000 -기술료 10만원/4시간
    -추가시료는 별도협의
    -출장비는 실비청구
    LC/MS/MS
    (Xevo TQ-S)
    정량분석 시료 70,000 100,000 정량분석 시 std는 시료수에 포함
    ICP-OES
    (720-ES)
    Element Analysis 시료 17,500 25,000 기본 3개 원소
    추가원소 분석 시 3,000원/원소
    전처리 시료 21,000 30,000
  • 공용장비이용료
    구분 장비
    (Model)
    분석 항목 단위 이용료 비고
    내부
    (70%)
    외부
    (100%)
    기기
    가공실
    CNC 5-Axis Machining
    (C40U)
    정밀 가공 hr 49,000 70,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    CNC 3-Axis Machining
    (B300V)
    정밀 가공 hr 35,000 50,000
    CNC late
    (TPL-6)
    정밀 원통가공 hr 21,000 30,000
    Lathe
    (TIPL-410)
    원통가공 hr 10,500 15,000
    Vertical Milling Machine
    (STM-2VM)
    평면가공 hr 10,500 15,000
    CNC Surface Grinding
    (DSG-630)
    정밀 평면가공 hr 21,000 30,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    Metal Cutting
    Band Saw
    (KDBS-200)
    소재절단 3,500 5,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    Electro Discharge
    Machine
    (znc200m)
    형상방전가공 hr 21,000 30,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    Coordinate Measuring Machine
    (pgs)
    정밀 측정 hr 17,500 25,000 -설계비 별도
    Three-Dimensional Measurement
    (NV-3000)
    3차원 측정 hr 17,500 25,000 -설계비 별도
    Semi Auto Formtracer
    System
    (SC-V3100)
    정밀 측정 0.5 hr 14,000 20,000 -설계비 별도
    Mult-Component
    Dynamometer
    (2825A)
    정밀 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도
    Laser Interferometer
    (XL-80)
    정밀 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도
    Powerful Microscope
    (MF-1010B)
    정밀 측정 0.5 hr 14,000 20,000 -설계비 별도
    Mini lathe & Milling
    (ML-360)
    소형
    공작물가공
    3,500 5,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    Bench Drilling Machine
    (MD-360)
    구멍가공 3,500 5,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    Plotter
    (HP Z6200)
    종이(paper) 35,000
    천(Fabric) 40,000
    Universal Testing Machine
    (AGS-100NX)
    정밀 측정 hr 14,000 20,000 -설계비 별도
    Electron-Beam PIKA Machine(PF32B) 정밀가공 hr 35,000 50,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    Ultra- Precision Nano Machine
    (FANUC ROBONANO α – 0iB)
    정밀 가공 2hr 84,000 120,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    3D Print
    (sPro TM 60SD SLS Center)
    시제품 제작 35,000 50,000 -재료비 별도
    Laser Cutting Machine
    (K2CMS1)
    정밀 커팅 0.5 hr 21,000 30,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    3D Scanner
    (REXCAN DS2)
    정밀 측정 0.5 hr 14,000 20,000 -설계비 별도
    Wire-Cut EDM
    (SL400G)
    정밀 커팅 hr 28,000 40,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    Welding
    (350A)
    제품 접합 0.5 hr 10,500 15,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    CNC Multi Tasking Machine
    (NTX 1000)
    선반/복합 가공 hr 42,000 60,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    초음파 가공기
    (20 Liner)
    특수가공 hr 56,000 80,000 -재료비 별도
    -Design 별도
    일반가공 hr 35,000 50,000
    설계비
    (모델링 작업)
    CAM 0.5 hr 10,500 15,000
    Modeling (Design) 0.5 hr 10,500 15,000
  • 공용장비이용료
    구분 장비
    (Model)
    분석 항목 단위 이용료 비고
    내부
    (70%)
    외부
    (100%)
    생체효능검증센터 LC/MS/MS
    (Orbitrap Elite,
    Q Exactive plus)
    Protein Identify Sample 210,000 300,000
    Protein Identify
    (Shot-gun)
    Sample 630,000 900,000
    Phophopeptide Site Determination Sample 330,000 480,000
    In-Gel Digestion Sample 35,000 50,000
    1D SDS-PAGE
    Mini Gel / Silver Staining
    Gel 70,000 100,000
    1D SDS-PAGE
    Mini Gel / Colloidal Staining
    Gel 56,000 80,000
    1D SDS-PAGE
    Gradient Gel / Silver Staining
    Gel 140,000 200,000
    1D SDS-PAGE
    Gradient Gel / Colloidal Staining
    Gel 120,000 180,000
    ESI MS Sample 21,000 30,000
    IVC Rack cage 마우스 사육 케이지․일 560
    랫 사육 케이지․일 850
    격리 마우스 사육 케이지․일 1,120
    격리 랫 사육 케이지․일 1,700
    마취 처방전 5,000 수의사 처방전발행
    기본실험
    기타
    질환모델 제작 hr 30,000 항목명 변경
    종양모델 제작에서 질환모델 제작으로 변경
    기타수술 및 실험지원 hr 30,000
    해부 실습 50,000 동물 포함
    배아 동결 및 이식 실험 배아 동결 보존 품종/개월 10,000 14,000 수정란 200개
    배아 동결 분양 마리 50,000 70,000 기본 2pairs
    배아 이식 품종 350,000 500,000 미생물모니터링 포함, 관련운송비 불포함
    동물 청정화 품종 800,000 1,100,000 대리모 이식 후 4주령 산자 제공
    (미생물모니터링 포함, 관련운송비 불포함)
    행동분석 장비 비디오분석 시간 8,900 12,800
    운동감각기능평가 시간 8,900 12,800
    행동분석실
    공간사용료
    시간 6,580 9,400
    조직병리장비 Tissue-processor 42,000 60,000
    Paraffin embedding center 시간 4,900 7,000
    Microtome 시간 6,300 9,000
    Cryostat 시간 6,300 9,000
    H&E 염색 32,200 46,000
    영상분석장비 MRI 시간 73,000 104,000
    micro CT 시간 42,000 60,000
    In Vivo optical Imaging system 시간 49,000 70,000
    데이터 분석료
    (Optical Imaging System)
    시간 7,000 10,000
  • 공용장비이용료
    구분 장비
    (Model)
    분석 항목 단위 이용료 비고
    내부
    (70%)
    외부
    (100%)
    바이오메드
    이미징실
    Confocal SIM Scan (FV1000) 이미지촬영 hr 35,000 50,000
    ZDC Mircoscope
    (Cell R)
    이미지촬영 hr 21,000 30,000
    TIFRM System
    (Cell TIRFM)
    이미지촬영 hr 49,000 70,000
    Virtual Microscopy
    (DOT/SLID)
    이미지촬영 hr 14,000 20,000
    Confocal Microscopy
    (FV10i)
    이미지촬영 hr 21,000 30,000
    Inverted Microscopy
    (IX-71)
    이미지촬영 hr 14,000 20,000
    Bio Imaging Navigator
    (FSX-100)
    위상차, 형광이미지 촬영 hr 14,000 20,000
    Macroview
    (MVX10)
    형광이미지 촬영 hr 14,000 20,000
    MetaMorph
    /AutoQuantX
    이미지분석 소프트웨어 3,500 3,500
    Imaging Analysis 1
    (ZEN, Imaris 8.0, MM, AQ)
    이미지분석 소프트웨어 3,500 3,500
    Imaging Analysis 2
    (ZEN, Imaris 9.6)
    이미지분석 소프트웨어 3,500 3,500
    Lightsheet Analysis
    (Arivis, Imaris 9.6)
    이미지분석 소프트웨어 3,500 3,500
    Super Resolution Microscope
    (SIM)
    Imaging Analysis hr 70,000 100,000
    Super Resolution Microscope
    (PLAM)
    Imaging Analysis hr 70,000 100,000
    Calcium Imaging Microscope System Imaging Analysis hr 21,000 30,000
    Multi-Photon Microscopy Imaging Analysis hr 70,000 100,000
    Laser Capture Microdissection Imaging Analysis hr 21,000 30,000
    Multi-Photon Confocal
    (LSM780NLO)
    Imaging Analysis hr 56,000 80,000
    Super Resolution (SIM & PALM) Imaging Analysis hr 70,000 100,000
    Light Sheet Microscope Imaging Analysis hr 70,000 100,000
    High Sensitive and Multiplex 980 Imaging Analysis hr 70,000 100,000
    Spectral and Live Cell Confocal
    (LSM780)
    Imaging Analysis hr 56,000 80,000
  • 공용장비이용료
    구분 장비
    (Model)
    분석 항목 단위 이용료 비고
    내부
    (70%)
    외부
    (100%)
    방사광활용
    연구실
    UNIST-PAL Beamline XRD Day 자율사용(Day:24hr) 693,000
    분석의뢰(Day:8hr) 1,260,000
    자율사용(Day:24hr) 990,000
    분석의뢰(Day:8hr) 1,800,000
    – Power user(빔라인
    3년이상 계속 사용자)
    30% 청구
    – UNIST 신임교원(임용
    후 3년 이내)은 무상
    지원
    SAXS Day
    XAFS Day
    X-ray Crystallography Day
    Control/Measurement Programing 1,260,000 1,800,000 40 hours a week warking days
    Data process/analysis Programing 1,260,000 1,800,000 40 hours a week warking days