보유장비

Metal ICP-RIE#2 | 유도결합플라즈마 금속 건식 식각기#2

보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 ICP380
제조사 Oxford instruments
담당자 김강오
연락처 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 1Hr 1일최대예약시간 3Hr
예약Open(~일 전) 14Days 예약취소불가(~일 전) 1Hr
장비위치 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101)
  • Description

    기본적으로 6 inch 웨이퍼가 로딩되어서 금속박막 및 금속재료를 식각이 가능한 장비이다.

    It is used for Metal dry etch and loading wafers.

  • Specifications

    Loadlock, Process chamber

    RF power (source : Max. 2000W, bias : Max. 300W)

    Loading : 6 inch wafer

    Gas : Cl2, Ar, Or

    Back He supply (Heater and Chiller mode)

  • Applications

    Metal, InP dry etching.