Metal ICP-RIE | 유도결합 플라즈마 금속 건식 식각기
연구실/분야 | |||
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모델명 | FABStar | ||
제조사 | TTL | ||
담당자 | 이선진 | ||
연락처 | 052-217-4193 / sunee6210@unist.ac.kr | ||
예약 가능여부 | 가능 | ||
예약단위 | 1Hr | 1일최대예약시간 | 3Hr |
예약Open(~일 전) | 14Days | 예약취소불가(~일 전) | 2Hr전 |
장비위치 | 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101) |
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Description
유도결합 플라즈마와 가스를 이용하여 Al, Ti, Cr, Au, Al2O3와 같은 재료를 식각하기 위해서 설계된 장치이다.
This eqipment is designed for etching metals like Al, Ti, Cr, Au and Al2O3, ITO.
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Specifications
-Process gas : CF4, SF6, Cl2, BCl3, HBr, Ar, O2, N2
-Sample : Standard 150 mm (6 inch)
• Al etch
-Etch rate > 2000 Å/min
-Selectivity (PR) > 2:1
-Uniformity > 95% (150mm)
-Profile angle > 90 ± 5 degree
• Cr
-Etch rate <300 Å/min
-Selectivity (PR) <0.5:1
-Uniformity >95% (150mm)
-Profile angle > 90 ± 5 degree
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Applications
Al, Ti, Cr, Au, Al2O3, ITO
(Except Cu, Ni)