Metal ICP-RIE#2 | 유도결합플라즈마 금속 건식 식각기#2
연구실/분야 | |||
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모델명 | ICP380 | ||
제조사 | Oxford instruments | ||
담당자 | 김강오 | ||
연락처 | 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr | ||
예약 가능여부 | 가능 | ||
예약단위 | 1Hr | 1일최대예약시간 | 3Hr |
예약Open(~일 전) | 14Days | 예약취소불가(~일 전) | 2Hr |
장비위치 | 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101) |
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Description
기본적으로 6 inch 웨이퍼가 로딩되어서 금속박막 및 금속재료를 식각이 가능한 장비이다.
It is used for Metal dry etch and loading wafers.
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Specifications
Loadlock, Process chamber
RF power (source : Max. 2000W, bias : Max. 300W)
Loading : 6 inch wafer
Gas :Cl2, Ar, O2, N2, SF6, C4F8
Back He supply (Heater mode)
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Applications
Metal, InP dry etching.