보유장비

Metal ICP-RIE | 유도결합 플라즈마 금속 건식 식각기

Metal ICP-RIE
보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 FABStar
제조사 TTL
담당자 김민재
연락처 052-217-4064 / mjkim@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 30min 1일최대예약시간 3Hr
예약Open(~일 전) 14Days 예약취소불가(~일 전) 2Hr전
장비위치 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101)
  • Description

    유도결합 플라즈마와 가스를 이용하여 Al, Ti, Cr, Au 와 같은 재료를 식각하기 위해서 설계된 장치이다.

    This eqipment is designed for etching metals like Al, Ti, Cr, Au

  • Specifications

    -Process gas : CF4, SF6, Cl2, BCl3, HBr, Ar, O2, N2

    -Sample : Standard 150 mm (6 inch)

    • Al etch

    -Etch rate > 2000 Å/min

    -Selectivity (PR) > 2:1

    -Uniformity > 95% (150mm)

    -Profile angle > 90 ± 5 degree

    • Cr

    -Etch rate <300 Å/min

    -Selectivity (PR) <0.5:1

    -Uniformity >95% (150mm)

    -Profile angle > 90 ± 5 degree

  • Applications

    Al, Ti, Cr, Au (Except Cu, Ni)