Hitachi NX2000 FIB | 이온집속빔
| 연구실/분야 | |||
|---|---|---|---|
| 모델명 | NX2000 | ||
| 제조사 | Hitachi | ||
| 담당자 | 김민재 | ||
| 연락처 | 052-217-4064 / mjkim@unist.ac.kr | ||
| 예약 가능여부 | 가능 | ||
| 예약단위 | 2 | 1일최대예약시간 | 6 |
| 예약Open(~일 전) | 14 | 예약취소불가(~일 전) | 2 |
| 장비위치 | 108동 102호 | ||
-
Description
분해능 4 nm @ 30 kV, 60 nm @ 2 kV
가속전압 0.5~30 kV
빔 전류 0.05 pA ~ 100 nA
Stage X: 0 ~ 205 mm
Y: 0 ~ 205 mm
Z: 0 ~ 10 mm
R: 0 ~ 360° Endless
T: -5 ~ 60°Resolution 4 nm @ 30 kV, 60 nm @ 2 kV
Accelerating voltage 0.5~30 kV
Beam current 0.05 pA ~ 100 nA
Stage X: 0 ~ 205 mm
Y: 0 ~ 205 mm
Z: 0 ~ 10 mm
R: 0 ~ 360° Endless
T: -5 ~ 60° -
Specifications
Resolution 4 nm @ 30 kV, 60 nm @ 2 kV
Accelerating voltage 0.5~30 kV
Beam current 0.05 pA ~ 100 nA
Stage X: 0 ~ 205 mm
Y: 0 ~ 205 mm
Z: 0 ~ 10 mm
R: 0 ~ 360° Endless
T: -5 ~ 60°
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Applications