보유장비

XeF2 etcher | XeF2 etcher (지논다이플로라이드 에쳐)

XeF2 etcher
보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 XeF2 Etch System
제조사 Advanced Communication Devices
담당자 김강오
연락처 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 4H 1일최대예약시간 12H
예약Open(~일 전) 14D전 예약취소불가(~일 전) 12H
장비위치 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101)
  • Description

    XeF2 가스를 이용하여 Silcon을 선택적으로 식각함.

    Etching Si by using XeF2 gas.

  • Specifications

    Etch rate : 2 um/min

    Pressure : 2000 mTorr

  • Applications

    Si Etching