보유장비

Dielectric RIE | 건식 식각장치

Dielectric RIE
보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 Labstar
제조사 TTL
담당자 김강오
연락처 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 1hr 1일최대예약시간 1hr
예약Open(~일 전) 2주전 예약취소불가(~일 전) 2hr
장비위치 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101)
  • Description

    Reactive ion etcher forms fine patterns by dry etching placing wafer inside the process module and generating plasma.

  • Specifications

    • SiO2 etch

    - process gases : CF4, CHF3, Ar, O2

    - etch rate : > 35 nm/min

    - uniformity : ± 5 % (200 mm diameter)

    - selectivity : SiO2 : resist = 3 ~ 5 : 1

    • SiN etch

    - process gases : CF4, Ar, O2

    - etch rate : > 50 nm/min

    - uniformity : ± 5 % (200 mm diameter)

    - selectivity : 1.5 ~ 3 : 1

  • Applications

    • Si / SiO2 / Si3N4 dry etching