보유장비

UHV CVD | 초고진공 화학기상 증착기

UHV CVD
보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 UHV-CVD
제조사 Woosin CryoVac
담당자 김형일
연락처 052-217-4065 / hikim78@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 3hr 1일최대예약시간 8hr
예약Open(~일 전) 2주전 예약취소불가(~일 전) 2hr
장비위치 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101)
  • Description

    UHV CVD system is the device which creates new qualified wafer based on chemical reaction between gas and sample by spraying a gas to keep base pressure at 1x10-9 torr

  • Specifications

    • Main chamber : 500 mm (vacuum range : 1 x 10-10)

    • Load lock chamber : 200 mm

    • Magnetic transfer probe : 800 mm stroke include linear guide & sample transfer line

    • Heater stage : 1,300 °C temp. 2" target

    • Gas supply : MFC 2 sets (H2 , N2)

  • Applications

    • High quality annealing for MEMS / nano device