보유장비

Hitachi Sputter

Hitachi Sputter
보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 E-1045
제조사 Hitachi
담당자 이경애
연락처 052-217-4163 / kalee@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 1일최대예약시간
예약Open(~일 전) 예약취소불가(~일 전)
장비위치 102동 B110호(Bldg.102, Room B110)
  • Description

    Sputter system employs a magnetron target assembly, which enhances the efficiency of the process using low voltages and giving a fine-grain, cool sputtering.

  • Specifications

    • Deposition Current 0-150mA

  • Applications

    • Conductive materials coating