Plasma PR Stripper | Plasma PR Stripper (플라즈마 감광제 제거기)
연구실/분야 | |||
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모델명 | PTP300 | ||
제조사 | PINK | ||
담당자 | 이선진 | ||
연락처 | 052-217-4193 / sunee6210@unist.ac.kr | ||
예약 가능여부 | 가능 | ||
예약단위 | 30min | 1일최대예약시간 | 3H |
예약Open(~일 전) | 14D | 예약취소불가(~일 전) | 0.5H |
장비위치 | 108동 B101호 |
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Description
반도체 포토 공정(photolithography) 및 플라즈마 에칭(etching) 공정 이후 잔여 레지스트(Resist) 막 제거를 위해 사용되는 설비
산소 플라즈마를 주로 사용하여 공정 진행Photo resist and polymer residue stipper after photolihography and plasma etching.
O2 plasma is used for process. -
Specifications
Sample : max 8inch
MW power : Max 500W
Temperature : 300~500 deg
Gas : O2, Ar
Dry pump
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Applications
PR stripper, O2 plasma