보유장비

Dielectric RIE | 건식 식각장치

Dielectric RIE
보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 Labstar
제조사 TTL
담당자 김강오
연락처 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 1hr 1일최대예약시간 1hr
예약Open(~일 전) 2주전 예약취소불가(~일 전) 2hr
장비위치 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101)
  • Description

    Reactive ion etcher forms fine patterns by dry etching placing wafer inside the process module and generating plasma.

  • Specifications

    • RF Power : Max. 500 W

    • Pressure : 0~1000 mTorr

    • Gas : CF4, CHF3, Ar, O2 (Max. 200 sccm for each)

    • Sample Size : Max. 6 inch

  • Applications

    • Si / SiO2 / Si3N4 dry etching

    • ETC. material etching (Not metal)