Deep Si Etcher | 깊은준위 건식식각 장치
연구실/분야 | |||
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모델명 | Tegal 200 | ||
제조사 | Tegal France | ||
담당자 | 김강오 | ||
연락처 | 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr | ||
예약 가능여부 | 가능 | ||
예약단위 | 1hr | 1일최대예약시간 | 3hr |
예약Open(~일 전) | 2주전 | 예약취소불가(~일 전) | 2hr |
장비위치 | 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101) |
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Description
Micro electro mechanical systems (MEMS) fabrication, deep reactive ion etching (DRIE) is one of the most characteristic widely utilized techniques.
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Specifications
• Source generator : 5000 W
• Chuck generator : 300 W
• E-chuck hellium cooling system
• SF6 / C4F8 / O2 bosch process
• Deep silicon etching
• Loadlock / Process chamber transfer
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Applications
• Deep etching process of Si