NLD Etcher | NLD Etcher(양자 광소자 식각장치)
| 연구실/분야 | |||
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| 모델명 | NLD-570 | ||
| 제조사 | ULVAC | ||
| 담당자 | 이선진 | ||
| 연락처 | 052-217-4193 / sunee6210@unist.ac.kr | ||
| 예약 가능여부 | 가능 | ||
| 예약단위 | 0.5H | 1일최대예약시간 | 3H |
| 예약Open(~일 전) | 14 days | 예약취소불가(~일 전) | 2H |
| 장비위치 | 108동 B101호 양자나노팹 | ||
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Description
Neutral Loop Discharge(NLD) 플라즈마를 이용하여 저손상·고밀도 환경에서 양자 및 반도체 소자 공정을 위한 정밀 건식 식각을 수행하는 장비.
A dry etching system that utilizes Neutral Loop Discharge (NLD) plasma to perform precision dry etching for quantum and semiconductor device fabrication under low-damage, high-density plasma conditions.
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Specifications
RF Source power : Max. 2000W
RF Bias power : Max. 1000W
Temp. : -20℃ ~ 40℃
Wafer size : up to 8inch
SiO2 Etch rate : almost 500nm/min(6inch Full wafer)
Bulk LN etch rate : almost 70nm/min(1cm x 1cm piece)
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Applications
Lithium Niobate, SiO2 etching