Hitachi Sputter
| 연구실/분야 | |||
|---|---|---|---|
| 모델명 | E-1045 | ||
| 제조사 | Hitachi | ||
| 담당자 | 이경애 | ||
| 연락처 | 052-217-4163 / kalee@unist.ac.kr | ||
| 예약 가능여부 | 가능 | ||
| 예약단위 | 10분 | 1일최대예약시간 | |
| 예약Open(~일 전) | 예약취소불가(~일 전) | ||
| 장비위치 | 102동 B109호(Bldg.102, Room B109) | ||
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Description
Sputter system employs a magnetron target assembly, which enhances the efficiency of the process using low voltages and giving a fine-grain, cool sputtering.
• Sputtering: 10,000 won/ea -
Specifications
• Deposition Current 0-150mA
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Applications
• Conductive materials coating