RTP | Rapid Thermal Processing (급속 열처리 시스템)
| 연구실/분야 | |||
|---|---|---|---|
| 모델명 | AW610 | ||
| 제조사 | Allwin21 | ||
| 담당자 | 강해라 | ||
| 연락처 | 052-217-4167 / haera@unist.ac.kr | ||
| 예약 가능여부 | 가능 | ||
| 예약단위 | 30min | 1일최대예약시간 | 4hour |
| 예약Open(~일 전) | 14day | 예약취소불가(~일 전) | 2hour |
| 장비위치 | 108 building B101 (Nanofabrication center) | ||
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Description
수 초~수 분 내에 열처리를 필요로 하는 공정에 사용되는 장비임
This equipment used for heating process in few seconds to minutes.
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Specifications
• Wafer Size : 4~6” wafer & pieces
• Tray : Metal, Non-Metal
• Duration time : 0~300 s/step
• Temperature : Max. 1000 ℃
• Ramp up rate : 10~120 ℃/s
• Temp Control : Thermocouple or Pyrometer
• Gas : N2, O2 (Max. 10 SLM)
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Applications
Annealing