Dielectric RIE | 건식 식각장치
| 연구실/분야 | |||
|---|---|---|---|
| 모델명 | Labstar | ||
| 제조사 | TTL | ||
| 담당자 | 홍희송 | ||
| 연락처 | 052-217-4194 / armada@unist.ac.kr | ||
| 예약 가능여부 | 가능 | ||
| 예약단위 | 1hr | 1일최대예약시간 | 1hr |
| 예약Open(~일 전) | 2주전 | 예약취소불가(~일 전) | 2hr |
| 장비위치 | 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101) | ||
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Description
Reactive ion etcher forms fine patterns by dry etching placing wafer inside the process module and generating plasma.
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Specifications
• RF Power : Max. 500 W
• Pressure : 0~1000 mTorr
• Gas : CF4, CHF3, Ar, O2 (Max. 200 sccm for each)
• Sample Size : Max. 6 inch
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Applications
• Si / SiO2 / Si3N4 dry etching
• ETC. material etching (Not metal)