보유장비

Wet station_Acid#3 | 습식세정장치 산#3

보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 Wet station
제조사 Changshintech
담당자 김강오
연락처 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 30min 1일최대예약시간 3Hr
예약Open(~일 전) 2주전 예약취소불가(~일 전) 2Hr
장비위치 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101)
  • Description

    습식 세정 공정 (산성 용액)
    불산, 황산/과수 용액을 사용
    최대 8인치 웨이퍼 공정이 가능함 (가열가능)
    금속 세정 공정 불가

    Wet cleaning and etching process by Acidic chemical.
    Max. 8inch (3ea) loaded in process bath with heating.
    Metal cleaning is unavilable.

  • Specifications

    • Chemical supply : Manual

    • Chemical temp. : ~ 80℃

    • Chemical type : SPM, DHF(BOE)

    • Chemical drain : 20L bottle drain (air valve)

    • 2 Q.D.R bath, 1 Drain bath cup

  • Applications

    • Wafer chemical cleaning

    • Wafer DI Water rinsing

    • Oxide removal