보유장비

Laser lithography | 레이저 리소그래피

보유장비 관련 정보
연구실/분야
모델명 Picomaster200
제조사 Raith
담당자 황은정
연락처 052-217-4192 / hej9204@unist.ac.kr
예약 가능여부 가능
예약단위 30 min 1일최대예약시간 4H
예약Open(~일 전) 14Day 예약취소불가(~일 전) 2hr
장비위치 108동 B101호 나노소자공정실
  • Description

    405nm GaN laser를 이용하여 um에서 nm단위 구조까지 구현이 가능하며, 8인치 크기까지 로딩이 가능한 Lithography 장비

    It is a equipment that can implement micro to nano structures using a 405nm GaN laser, and is a lithography equipment that can load up to 8 inches in size.

  • Specifications

    Standalone system

    - Highest resolution 405nm diode laser

    - Sample size : Up to 8” wafer

    - Structures : 300nm

    - Substrate size: up to 220×220mm

    - Substrate thickness: up to 4mm

  • Applications