FEI Sputter | FEI Sputter
연구실/분야 | |||
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모델명 | K575X | ||
제조사 | EMITECH | ||
담당자 | 이경애 | ||
연락처 | 052-217-4163 / kalee@unist.ac.kr | ||
예약 가능여부 | 가능 | ||
예약단위 | 1일최대예약시간 | ||
예약Open(~일 전) | 예약취소불가(~일 전) | ||
장비위치 | 102동 B114호 (Bldg.102, Room B114) |
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Description
Sputter system employs a magnetron target assembly, which enhances the efficiency of the process using low voltages and giving a fine-grain, cool sputtering.
• Sputtering: 10,000 won/ea -
Specifications
• Deposition Current 0-150mA
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Applications
• Conductive materials coating