XeF2 etcher | XeF2 etcher (지논다이플로라이드 에쳐)
| 연구실/분야 | |||
|---|---|---|---|
| 모델명 | XeF2 Etch System | ||
| 제조사 | Advanced Communication Devices | ||
| 담당자 | 김강오 | ||
| 연락처 | 052-217-4182 / ko8809@unist.ac.kr | ||
| 예약 가능여부 | 가능 | ||
| 예약단위 | 4H | 1일최대예약시간 | 12H |
| 예약Open(~일 전) | 14D전 | 예약취소불가(~일 전) | 12H |
| 장비위치 | 108동 B101호 (Bldg. 108, Room B101) | ||
-
Description
XeF2 가스를 이용하여 Silcon을 선택적으로 식각함.
Etching Si by using XeF2 gas.
-
Specifications
Etch rate : 2 um/min
Pressure : 2000 mTorr
-
Applications
Si Etching